[중국 반도체 자립 (로이터=연합뉴스 자료사진)]
중국이 네덜란드 ASML에 의존했던 핵심 장비의 국산화를 시도하고 있습니다. 

현지시간 16일 영국 파이낸셜타임스(FT)는 중국 최대 파운드리 업체인 SMIC가 상하이 소재 스타트업 위량셩(宇量昇)이 개발한 심자외선(DUV) 노광장비를 시험 가동하고 있다고 익명의 소식통을 인용해 보도했습니다.
미국 시장조사업체 번스타인의 반도체 전문가 린칭위안은 "이번 시도가 성공한다면 중국 기업들이 더욱 진보된 반도체 장비를 개발하는 데 중요한 전환점이 될 것"이라고 말했습니다. 
DUV 노광장비는 45∼7㎚(나노미터) 공정에 쓰이는 반도체 핵심 장비로, SMIC는 이번 시험 가황금성용가리
동에 28㎚ 공정용 장비를 도입한 것으로 전해집니다. 
SMIC는 멀티 패터닝(multi-patterning·반복 노광 공정) 기술을 활용해 7㎚ 칩 생산도 시도할 예정으로 알려졌스니다. 
일부 전문가들은 이 장비가 수율을 최대한 개선해 5㎚ 칩까지 생산할 수 있을 것으로 봤지만, 그보다 상위 공정은 불가능하다고 평가했습멘토클럽
니다.
2㎚ 등 최첨단 칩의 경우 중국 수출이 금지된 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비로만 생산할 수 있습니다. 
SMIC가 이번 시험 가동에 성공하더라도 관련 부품 국산화와 대량 생산, 수율 개선 등은 여전히 남은 과제입니다. 
FT는 "해당 라인에서 생산되는 칩의 안정성과 수율이 일정 수준에 도달저평가우량주
하기 위해서는 최소 1년이 걸릴 것"이라고 덧붙였습니다. 


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